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白光垂直扫描干涉法：解锁物体微观表面形貌测量的新维度

一、引言

1.1研究背景与意义

在现代科学与工业领域，对物体微观表面形貌的精确测量至关重要。从半导体芯片制造到光学元件加工，从生物医学研究到材料科学分析，微观表面形貌的特征直接影响着产品性能、材料特性以及系统的整体运行效率。在半导体制造中，芯片表面的微观粗糙度和缺陷会显著影响电子迁移率，进而影响芯片的运算速度和稳定性；光学镜片的微观形貌精度则决定了其成像质量，微小的表面瑕疵可能导致光线散射和像差，降低光学系统的分辨率。因此，准确获取物体微观表面形貌信息，对于优化制造工艺、提升产品质量、推动科学研究进展具有不可替代的作用。

传统的接触式测量方法，如触针式轮廓仪，虽能获取一定精度的表面轮廓信息，但在测量超光滑表面时，尖锐的触针极易划伤被测样件，造成表面损伤，同时测量过程中的接触力也可能引起测量误差，限制了其在高精度要求场景下的应用。而扫描隧道显微镜（STM）和原子力显微镜（AFM）虽具有原子尺度的超高分辨率，却对测量环境要求苛刻，需配备复杂的隔振和伺服控制系统，仪器价格昂贵且测量范围小，在实际应用中存在诸多限制。

白光垂直扫描干涉法作为一种非接触式光学测量技术，近年来得到了广泛关注和应用。其基于白光干涉原理，通过垂直扫描获取干涉条纹的变化信息，进而精确重构物体表面的三维形貌。该方法具有高精度、大量程、无相位模糊以及非接触测量等显著