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- 2026-07-28 发布于辽宁
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光模块资本开支与设备专题研究:产能扩张、设备需求与CPO技术路径——AI光互联黄金赛道;;核心提要;1、AI算力革命:光模块资本开支进入新一轮扩张周期;;;;;2、产能扩张:全球光模块资本开支进入超级周期;指标;;;;;;3、光模块产业链:产能格局、设备价值与资本密度;公司;设备环节;;4、CPO技术路径:翻开光互连的新篇章;;设备;厂商;;CPO(共封装光学)将光引擎从可插拔模块前移至交换ASIC封装基板,这一架构变化对设备产业链产生了系统性影响,主要体现在四个环节:
耦合环节:精度要求跃升。传统可插拔光模块的耦合对准精度在亚微米量级,CPO因光引擎与ASIC共封装,耦合对准精度要求进一步提升至数十纳米级别。同时,CPO需要六轴精密对准,单台设备的结构复杂度、对位算法和运动控制精度的要求均显著高于传统耦合设备。
测试环节:体系层级成倍增加。传统可插拔光模块的测试集中在模块终测,CPO的测试体系扩展为五层插入点:1)PIC晶圆级测试→2)EIC-PIC键合晶圆级测试→3)OE裸片级测试→4)ATE封装终测→5)SLT系统级测试。其中,EIC-PIC双面晶圆测试被Advantest列为当前CPO量产的最大瓶颈——需同时从顶部探电、底部探光,目前尚无成熟的高量产自动化方案。新增的PIC晶圆探针台、EIC-PIC双面测试系统、OE级自动化测
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