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镀膜工创新能力与改进提案考核试卷及答案

一、单项选择题（每题2分，共20分）

1.真空镀膜过程中，若膜层与基材结合力不足，最可能的初始影响因素是：

A.靶材纯度

B.基材表面清洁度

C.镀膜室真空度

D.沉积速率

2.磁控溅射镀膜中，氩气流量过高会直接导致：

A.等离子体稳定性下降

B.膜层厚度均匀性提升

C.靶材溅射速率加快

D.膜层内应力降低

3.光学镀膜中，若出现可见光波段反射率异常波动，优先排查的参数是：

A.基材预热温度

B.膜层厚度监控精度

C.冷却系统压力

D.靶材更换频率

4.针对塑料基材的真空镀膜，为提升膜层附着力，最经济有效的预处理方法是：

A.等离子体表面活化

B.化学溶剂浸泡

C.高温退火处理

D.机械打磨粗化

5.镀膜设备维护中，若发现分子泵抽速下降，首先应检查：

A.泵油液位与污染程度

B.冷却水流量

C.电机供电电压

D.真空计校准状态

6.硬质涂层（如TiN）镀膜时，膜层硬度不足的常见原因是：

A.氮气流量过低

B.基材偏压过高

C.沉积温度过低

D.靶材电流过小

7.卷对卷连续镀膜中，基材走速波动会直接影响：

A.膜层成分均匀性

B.设备能耗

C.