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面向算力互联的铌酸锂薄膜电光频率梳：基于级联调制器的宽带平坦光频梳生成趋势

摘要

本报告聚焦于先进调制与复用技术领域，深入探讨基于铌酸锂薄膜（TFLN）平台的电光频率梳（EOFC）技术，特别是通过级联调制器方案生成宽带平坦光频梳的最新趋势。预测周期为未来3-5年（2025-2029年）。报告旨在研判该技术在高速相干光通信与算力互联网络中的发展路径与应用前景。

核心趋势判断表明，TFLN电光频梳凭借其高线性度、低功耗、CMOS兼容性与可编程性，正成为替代传统锁模激光器与非线性微腔光频梳的关键技术。预测其在相干光通信发射机中，作为多载波光源的市场渗透率将从2025年的不足5%提升至2029年的25%以上。关键驱动因素包括数据中心间（DCI）与算力网络对超高容量、低延迟传输的迫切需求，以及TFLN制造工艺成熟带来的成本下降。

报告遵循“环境→现状→趋势→演进→预测→影响→建议”的逻辑展开。第一章概述研究框架。第二章分析宏观环境与技术驱动。第三章梳理光频梳与TFLN调制器市场现状。第四章为核心趋势研判，识别高确定性趋势（如TFLNEOFC在DCI中应用加速）与高影响力不确定趋势（如异质集成技术突破）。第五章描绘趋势演进时间线。第六章进行多场景量化预测。第七章分析对产业链的影响与战略机遇。第八章提出结论与建议。读者可通过摘要把握TFLN电光频梳技术从实验室走向大规模商用的