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单晶刻蚀碱抛工艺考核试题及详细答案

适用岗位：光伏单晶电池片刻蚀、碱抛操作工、工艺员

考核时长：60分钟

满分：100分

说明：试题贴合现场实际生产，无理论空话，重点考察实操规范、工艺原理、参数管控及异常故障处理

一、填空题（每空2分，共20分）

1、单晶硅片碱抛制绒核心反应原理是利用__________溶液与硅片发生各向异性腐蚀，形成均匀微米级绒面。

2、单晶碱抛工艺常用的主药剂为__________，辅助添加剂主要为__________、制绒助剂。

3、碱抛工序的核心目的是去除硅片表面__________、切割损伤层，同时制备均匀绒面，降低电池片表面反射率。

4、单晶碱抛工艺中，反应温度