磁控溅射ZnO薄膜的掺杂改性与气敏性能考核试卷.docVIP

磁控溅射ZnO薄膜的掺杂改性与气敏性能考核试卷

一、单项选择题（每题1分，共30题）

1.磁控溅射ZnO薄膜掺杂Al的主要目的是什么？

A.提高透明度

B.增强导电性

C.提高气敏性能

D.降低成本

2.在磁控溅射过程中，哪种气体常用作工作气体？

A.Ar

B.N2

C.O2

D.H2

3.掺杂Mg的ZnO薄膜，其气敏性能主要体现在对哪种气体的响应？

A.CO

B.H2S

C.NH3

D.NO2

4.磁控溅射ZnO薄膜时，溅射功率增加，薄膜的厚度会如何变化？

A.减小

B.增大

C.不变

D.无法确定

5.掺杂Cr的ZnO薄膜，其主要应用领域是什么？

A.气敏传感器

B.光电显示器

C.薄膜太