无掩模数字光刻赋能先进封装，开启高精度高效率柔性制造新纪元.docxVIP

QYResearch｜全球数字光刻系统行业调研报告

QYResearch｜全球数字光刻系统行业调研报告

数字光刻系统（DigitalLithographySystem）是指将CAD、GDS、Gerber或其他数字版图数据实时转换为曝光控制数据，通过DMD、GLV、液晶型SLM等可编程空间光调制器，或者通过可数字寻址的激光扫描及多曝光头，将图形直接转移至涂覆光刻胶、干膜、阻焊油墨或其他感光材料的晶圆、面板和基板表面的光学曝光设备。其核心特点是不依赖固定实体光掩模，可根据设计数据动态生成“数字掩模”，从而减少掩模制作、管理和更换环节，缩短产品开发与工艺切换周期。按窄口径，数字光刻系统主要指基于紫外光、近紫外光或可见光的光学无掩模曝光设备，不包括电子束光刻、离子束光刻、扫描探针光刻、双光子聚合以及纳米压印设备。Nikon将其后工程设备正式称为DigitalLithographySystem，EVGroup则采用MasklessExposureLithography，HeidelbergInstruments通常使用MasklessLaserLithography或Direct-WriteLithography，因此数字光刻系统可以视为这些光学数字直写设备的上位市场概念。

从行业实际出发，数字光刻系统可分为三条主要技术路线。第一类是DMD/DLP二维投影式数字光刻系