半导体芯片制造工艺设计方案
目录TOC\o1-4\z\u
一、项目概述 3
二、工艺目标 5
三、产品定位 6
四、技术路线 8
五、晶圆材料选择 10
六、厂房与洁净要求 12
七、光刻工艺设计 14
八、薄膜沉积工艺 16
九、刻蚀工艺设计 18
十、离子注入工艺 22
十一、扩散与退火工艺 25
十二、化学机械抛光 27
十三、金属互连工艺 29
十四、封装工艺设计 32
十五、测试工艺设计 38
十六、关键设备配置 40
十七、工艺参数控制 43
十八、过程监测方案 44
十九、良率提升措施
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