CN119461398A 一种介孔二氧化硅超薄纳米片及其制备方法 (沈阳大学).pdfVIP

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  • 2026-08-17 发布于重庆
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CN119461398A 一种介孔二氧化硅超薄纳米片及其制备方法 (沈阳大学).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119461398A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411667457.8

(22)申请日2024.11.21

(71)申请人沈阳大学

地址110000辽宁省沈阳市大东区望花南

街21号

(72)发明人龙海波于传顺刘凯璇郭佳宇

武泽卿

(51)Int.Cl.

C01B33/18(2006.01)

B82Y40/00(2011.01)

权利要求书1页说明书4页附图1页

(54)发明名称

一种介孔二氧化硅超薄纳米片及其制备方

(57)摘要

本发明公开了一种介孔二氧化

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