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反应磁控溅射制备TiN薄膜的微观结构与力学性能研究材料表面工程·课程论文汇报基于PVD技术—直流反应磁控溅射法论文来源:张涛等.氮气流量对反应磁控溅射TiN薄膜微观结构及力学性能的影响[J].表面技术,2022,51(8):125-1332026年4月

目录01研究背景TiN薄膜概述与应用·磁控溅射技术原理02研究方法实验设备、工艺参数·表征手段03实验结果分析微观结构(XRD/SEM)·力学与摩擦学性能04结论研究总结与展望·参考文献2/10

研究背景—TiN薄膜概述TiN(氮化钛)薄膜简介TiN是一种具有NaCl型面心立方结构的过渡金属氮化物涂层材料

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