ASTM D5127-13(2018) 电子学和半导体工业用超纯水标准指南（中文版）.docxVIP

ASTMD5127-13(2018)电子学和半导体工业用超纯水标准指南（中文版）

标准英文名称：StandardGuideforUltra-PureWaterUsedintheElectronicsandSemiconductorIndustries

版本信息：ASTMD5127-13，2018年复审确认有效

发布机构：美国材料与试验协会（ASTMInternational）

文件属性：指导性标准（Guide），非强制性规范，提供半导体/电子行业超纯水分级、水质指标、监测与应用通用指南

适用点位：全程针对分配点（POD,PointofDistribution）水质进行规范

1范围

1.1本指南提供电子、半导体行业制造制程用水的水质分级、指标限值、监测方法与应用推荐要求。本标准共定义7个水质等级，可覆盖半导体最小线宽0.032μm先进制程至常规微电子、通用电子制造全场景用水需求。

1.2本标准适用工艺场景包含：半导体晶圆清洗、漂洗、刻蚀、硅表面氧化蒸汽制备、光掩模加工、发光薄膜沉积、固态器件制造、微电子组件生产等制程用水。

1.3本标准所有指标与推荐要求均针对厂区主管末端分配点（POD）水质，不包含设备终端取水点（POU）专项要求，终端设备用水需结合终端过滤、稳压、洁净处理进一步管控。

1.4本标准为行业指导性文件，用于规范超纯水系统