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- 2026-08-27 发布于北京
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摘要
电解铜箔主要应用领域包括锂电铜箔及电子电路铜箔。其中,电子铜箔核心应用于PCB,当前主要技术路线包括THE、RTF和HVLP。HVLP路线性能上限更高,Rz粗糙度可下探到1.0μm以下。一般认为HVLP三代及以上属于高端电子铜箔,可专门适配高端AI算力互联,但工艺要求门槛更高。
锂电铜箔在需求爆发下周期扭转,26Q3有望开启第二轮涨价。供给端,26/27年锂电铜箔有效产能约193.8/221.0万吨,27年锂电铜箔有效产能仅增加27万吨,供给扩张谨慎。需求端,26/27年预计全球锂电需求3143/3939GWh,对应全年产能利用率89%/98%,整体铜箔将持续处于供给紧张状态。供需紧平衡下铜箔价格持续提升,26年以来电池级铜箔涨价幅度3000-6000元/吨,其中高端极薄铜箔供给显著紧张,涨价幅度显著高于低端常规铜箔,直接带来业绩弹性。
AI需求爆发下,电子铜箔用量提升和产品高端化趋势显著,高端品供不应求凸显,订单外溢趋势明确,中国企业逐步切入高端产业链。预计26/27年AI领域高端铜箔需求1.04/2.20万吨,全场景高端铜箔需求2.97/4.77万吨,AI服务器用铜箔快速切换向HVLP3+。高端电子铜箔单吨盈利显著高于传统
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