CN119779157A 一种研究提高取向硅钢涂层均匀度的试验方法 （武汉科技大学）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119779157A

(43)申请公布日2025.04.08

(21)申请号202411647487.2

(22)申请日2024.11.18

(71)申请人武汉科技大学

地址430081湖北省武汉市和平大道947号

(72)发明人王兴东周演哲郭湛梁浩然

张亦辰刘钊刘怀广李小白

吴宗武

(74)专利代理机构北京科瑞爱特知识产权代理

事务所(普通合伙)16410

专利代理师张晓利

(51)Int.Cl.

G01B11/02(2006.01)

C21D8/12(2006.01)

B05C1/08(2006.01)