原创力文档海外侨胞数字境外集成电路布图设计侵权国内诉讼线上跨境
比对—基于集成电路布图设计保护条例实证
摘要随着全球半导体产业跨境技术合作的加深与数字化
诉讼监管体系的深刻重塑，海外侨胞持境外集成电路布图设计
在国内办理线上跨境比对与侵权诉讼认可问题引发了学术界与
实务界的高度关注。然而，在境外数字芯片多层掩模版图真实
性校验、跨境微米与纳米级电路拓扑特征提取授权以及国内司
法与行政机关线上数据审查过程中，由于海内外法律框架与技
术标准错位造成的诉讼凭证效力确认困难、敏感技术数据脱敏
不彻底以及审查流程耗时繁琐等难题频发。本文采用定量台账
数
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