半导体工厂环境控制设备：微振动抑制与AMC空气分子污染监控升级.docxVIP

PAGE2

半导体工厂环境控制设备：微振动抑制与AMC空气分子污染监控升级

本报告说明

本报告聚焦半导体工厂环境控制设备这一细分赛道，重点围绕极紫外（EUV）光刻环节的微振动抑制与气态分子污染物（AMC）监控升级两条主线展开调研。报告以一线晶圆厂的工艺痛点为切入口，向上回溯至设备厂商的技术供给，向下延伸到化学过滤器、主动减振平台等关键子市场的竞争格局与价格走势。

调研覆盖中国大陆、中国台湾、韩国、日本及美国的主要晶圆制造基地，时间跨度以2020—2024年历史数据为主，并对2025—2028年做出趋势预测。核心数据来源包括SEMI、TechInsights、ICInsights、Gar