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- 2026-09-05 发布于山西
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(19)国家知识产权局
(12)发明专利申请
(10)申请公布号CN119846901A
(43)申请公布日2025.04.18
(21)申请号202311336413.2
(22)申请日2023.10.16
(71)申请人上海集材微电子材料技术有限公司
地址201417上海市奉贤区上海化学工业
区目华路201号1幢20层2009室
(72)发明人李新正周旋宋清政王锦山
(74)专利代理机构北京知元同创知识产权代理事务所(普通合伙)11535
专利代理师吕少楠
(51)Int.Cl.
G03F7/004(2006.01)
B01D15/08(2006.01)
B01D15/36(2006.01)
B01D36/04(2006.01)
权利要求书1页说明书8页附图1页
(54)发明名称
一种用于光刻胶树脂的纯化方法和纯化系
统
(57)摘要
CN119846901A本发明提供一种用于光刻胶树脂的纯化方法和纯化系统,所述纯化方法包括:将待处理的光刻胶树脂依次通过第一纯化单元和第二纯化单元;其中,所述第一纯化单元中包括吸附树脂和/或分子筛;所述第二纯化单元中包括混合树脂;所述混合树脂为阳离子交换树脂和阴离子交换树脂混合后形成的树脂。所述纯化方法可以很好地去除光刻胶树脂中的金属杂质和水分,并获得光刻胶树脂胶液或光刻
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