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- 2026-09-07 发布于北京
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1996年2月
NNDS9959
双N沟道增强型场效应晶体管
一般描述特性
这些N沟道增强模式电力场效应2.0A,50V。R
=0.3@
V
=10V
晶体管是采用国家专有的高单元DS(ON)GS
密度DMOS技术。这种密度工艺是DS(ON)
度单元设计,实现极低R。
特别设计用于最小化导通电阻,优异的开
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