GBT 46191-2025《电子级五(二甲氨基)钽》标准立项发展报告.docx

GB/T46191-2025《电子级五(二甲氨基)钽》标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:ElectronicGradePentakis(dimethylamido)tantalum

摘要

随着集成电路制程不断向纳微米节点纵深推进，高介电常数（high-k）栅介质材料与三维存储结构的规模化应用对前驱体材料的纯度、一致性及批次稳定性提出了极为苛刻的要求。五(二甲氨基)钽（PDMAT，化学式Ta(N(CH?)?)?）作为原子层沉积（ALD）和化学气相沉积（CVD）工艺制备五氧化二钽（Ta?O?）薄膜的核心金属有机前驱体，其质量水平直接决定