CN119856262A 排气构造、排气系统、处理装置以及半导体装置的制造方法 （株式会社国际电气）.docxVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119856262A

(43)申请公布日2025.04.18

(21)申请号202380065224.8

(22)申请日2023.03.30

(30)优先权数据

2022-1483692022.09.16JP

(85)PCT国际申请进入国家阶段日2025.03.11

(86)PCT国际申请的申请数据

PCT/JP2023/0132022023.03.30

(87)PCT国际申请的公布数据

WO2024/057590JA2024.03.21

(71)申请人株式会社国际电气地址日本

(72)发明人坂田雅和高桥良辅

(74)专利代理机构北京银龙知识产权代理有限

公司11243

专利代理师范胜杰金慧善

(51)Int.Cl.

H01L21/31(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图4页

(54)发明名称

排气构造、排气系统、处理装置以及半导体

装置的制造方法

(57)摘要

CN119856262A具备：排气管，其对处理室的气氛进行排气；压力检测部，其设置于所述排气管，对所述排气管内的压力进行检测；以及分支管，其具有接收来自所述压力检测部的信号而进行动作的开闭部和防止向所述排气管的逆流的阀部，所述分支

CN119856262A

CN119856