CN119480799A 一种衬底的减薄方法 (上海积塔半导体有限公司).pdfVIP

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  • 2026-09-12 发布于重庆
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CN119480799A 一种衬底的减薄方法 (上海积塔半导体有限公司).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119480799A

(43)申请公布日2025.02.18

(21)申请号202411588928.6

(22)申请日2024.11.07

(71)申请人上海积塔半导体有限公司

地址201306上海市浦东新区自由贸易试

验区临港新片区云水路600号

(72)发明人洪智强丁培李茜

(74)专利代理机构上海光华专利事务所(普通

合伙)31219

专利代理师余明伟

(51)Int.Cl.

H01L21/77(2017.01)

H01L21/76(2006.01)

H01L21/71(2006.01)

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