IECTS 62607-11-1-2025 纳米制造 关键控制特性 第11-1部分：电磁兼容性 纳米材料的屏蔽效果：近场探针法 标准立项发展报告.docxVIP

纳米制造关键控制特性第11-1部分：电磁兼容性纳米材料的屏蔽效果：近场探针法标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:Nanomanufacturing-Keycontrolcharacteristics-Part11-1:Electromagneticcompatibility-Shieldingeffectivenessofnanomaterials:near-fieldprobemethod

摘要：随着5G/6G通信、柔性电子、可穿戴设备、新能源汽车和航空航天装备快速发展，电磁兼容性已成为影响系统可靠性和安全性的关键因素。纳米材料因具有高比表面积、可调导电网络、界面极化和多重反射损耗等特性，在电磁屏蔽领域展现出重要应用潜力。然而，纳米材料常以薄膜、涂层、复合薄片或小尺寸试样形式出现，具有各向异性、非均质和近场耦合复杂等特点，传统远场屏蔽效能测试方法在试样尺寸、边界条件和重复性方面存在局限。IEC/TS62607-11-1-2025《纳米制造关键控制特性第11-1部分：电磁兼容性纳米材料的屏蔽效果：近场探针法》由IEC/TC113制定，标准状态为现行，实施日期为2025年8月13日。该技术规范面向纳米制造过程与产品，规定采用近场探针法评价纳米材料电磁屏蔽效果的关键控制特性，涵盖术