土地登记代理人地籍调查综合提升训练试卷.pdfVIP

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土地登记代理人地籍调查综合提升训练试卷.pdf

土地登记代理人之地籍调查综合提升

训练试卷

高等解析思路先说明内应力来源主要是薄膜生长过程中原子排列与基底晶格失配热失配晶格失配引起的应变累积或薄膜相变杂质引入等然后列举减小方法选择热膨胀系数匹配的薄膜与基底材料进行适当的热处理退火释放应力引入缓冲层采用低温沉积或外延生长技术离子注入

单选题(共20题)

1.()为土地注册登记、核发证书提供依据,是土地登记的法定程序,

是土地登记的基础工作。

A.地籍调查

B.土地统计

力D改变薄膜晶相薄膜与基底之间结合力差的原因可能包括A化学键合不足B热应力不匹配C表面清洁度差D以上都是下列哪种技术常用于制备超薄纳米级金属或半导体薄膜A高速等离子体沉积B真空蒸发C喷雾热分D分子束外延MBE在薄膜制备过程中通过控制衬底温度

C.土地测量

D.地籍信息系统管理

【答案】A

2.土地权属来源情况、使用权类型调查的内容不包括()。

A.收集各种权属来源证明材料

B.核实宗地的土地权属来源情况主要影响的是A薄膜生长速率B薄膜晶粒尺寸C薄膜成分均匀性D以上都是CVD技术中反应气体在热表面发生化学反应并沉积成膜的过程通常发生在A

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