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纳米片高度和宽度对环栅器件微尺度的影响仿真研究
摘要
随着社会经济的发展和科学的进步,半导体工艺制程在进入32nm以下的节点后,每一步都历尽艰辛,传统的工艺技术已经无法满足7nm以下的制程了。好在鳍式场效应晶体管器件之后,又带来了全新的环栅器件工艺;而5nm之后的时代,全新环栅技术有望延续现有半导体技术路线的寿命。所以本次课题是对纳米片环栅器件进行TCAD仿真分析,通过改变工艺参数来研究对纳米片环栅器件的影响。
本次课题研究是利用SentaurusTCAD,SentaurusVisual,SentaurusDevice等模块构建纳米片环栅器件模型,研
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