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pvd试卷试题及答案.docx

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    pvd试题及答案

    一、单选题（本题型共10题，每题2分，共20分）

    1.PVD的全称是（）

    A.化学气相沉积B.物理气相沉积C.等离子体气相沉积D.电化学气相沉积

    2.蒸发镀的核心原理是（）

    A.离子轰击靶材逸出粒子B.加热使材料蒸发并沉积C.气体化学反应生成涂层D.等离子体激活沉积

    3.溅射工艺中，沉积粒子的主要来源是（）

    A.基片表面蒸发的粒子B.靶材被离子轰击逸出的粒子C.反应气体分解的粒子D.真空室残留的杂质粒子

    4.离子镀与蒸发镀相比，最显著的优势是（）

    A.沉积速率

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