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2026年镀膜工程师技能考试题及答案

一、填空题（每题2分，共20分）

1.镀膜工艺中，常用的基材材料包括______和______。

2.在磁控溅射镀膜过程中，靶材的纯度对镀膜质量的影响主要体现在______。

3.镀膜层的厚度控制通常通过______和______两种方法实现。

4.溅射镀膜过程中，工作气压的调整会影响______和______。

5.镀膜过程中，为了提高膜层的附着力，通常会在基材表面进行______处理。

6.PVD镀膜技术主要包括______、______和______三种方法。

7.CVD镀膜技术中，常用的气体前驱体包括______和______。

8.镀膜层的硬度通常通过______和______两种方法进行测试。

9.镀膜过程中的温度控制主要通过______和______两种方式实现。

10.镀膜层的均匀性通常通过______和______两种方法进行检测。

二、判断题（每题2分，共20分）

1.磁控溅射镀膜技术可以用于制备各种金属和非金属薄膜。（）

2.镀膜层的厚度通常与溅射时间成正比。（）

3.PVD镀膜技术通常适用于大面积基材的镀膜。（）

4.CVD镀膜技术通常适用于制备高纯度薄膜。（）

5.镀膜层的附着力通常与基材表面的清洁度无关