i线光刻级氟化钙晶体 标准立项发展报告.docx

i线光刻级氟化钙晶体标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:i-lineLithographyGradeCalciumFluorideCrystal

摘要

随着集成电路制程持续向高精度、高良率方向演进，光刻系统核心光学材料的性能边界成为制约产业发展的关键因素之一。氟化钙晶体凭借其在深紫外波段优异的透过率、较低的双折射及良好的激光损伤阈值，长期被用作光刻物镜与照明系统的关键光学元件。然而，i线（365nm）光刻用氟化钙晶体长期缺乏统一的行业标准，导致国内市场产品质量参差不齐、检测方法各异、贸易流通缺乏技术依据。本报告基于JC/T3