PVD 镀膜设备：半导体和 AI 硬件打开中长期成长空间.pdfVIP

全球市场研究报告

PVD镀膜设备市场概述

PVDPhysicalVaporDepositionCoatingEquipment

镀膜设备（）是在真空或低压环境下，通过磁控溅射、电阻热蒸

发、电子束蒸发、电弧离子镀、离子束溅射、离子束辅助沉积和脉冲激光沉积等物理过程，将靶材或蒸发材料转化为

气相并沉积到基材表面形成薄膜的专用设备。设备通常由真空腔体、真空泵组与阀门、靶材及磁控阴极、蒸发源或电

子枪、弧源与离子源、工件架及基板传输机构、加热与冷却模块、工艺气体系统、膜厚监测、电源和自动控制软件组

成，可形成金属、介质、导电氧化物、硬质耐磨、光学及装饰薄膜。

随着半导体及先进封装、显示面板与OLED、精密光学、汽车电子、消费电子、太阳能光伏和高性能表面工程需求增

长，全球PVD镀膜设备市场保持较快发展。终端客户更加关注薄膜均匀性、致密性、附着力、颗粒控制、靶材利用

率、沉积速率、设备稼动率、自动化程度以及单位产品能耗。欧美和日本企业在高端半导体PVD、光学多层膜、大面

积连续镀膜和复杂工艺控制方面具有较强积累，中国、韩国及其他亚洲供应商则在本地化交付、定制化设备、成本控

制和快速服务方面持续提升。具备真空系统设计、等离子体