单片式晶圆清洗设备：先进制程与宽禁带器件带动需求扩容.pdfVIP

全球市场研究报告

单片式晶圆清洗设备市场概述

SingleWaferCleaningEquipment

单片式晶圆清洗设备（）是以单片晶圆为处理单位，利用湿法化学、兆声波、二流体

喷射、旋转清洗、刷洗、低损伤物理清洗及干燥等技术，去除晶圆表面的颗粒、金属离子、有机物、自然氧化层和工

艺残留物的半导体专用设备。设备通常由晶圆搬运系统、工艺腔体、化学液供给与回收模块、喷嘴或兆声组件、旋转

卡盘、漂洗与干燥单元、温控系统、过滤系统、传感器和自动控制软件组成，可根据不同制程节点、薄膜材料和衬底

类型配置清洗配方。相较于槽式批量清洗，单片式设备在交叉污染控制、工艺均匀性、化学品利用率、配方灵活性和

先进制程兼容性方面更具优势，广泛用于逻辑、晶圆代工、存储器、功率半导体、化合物半导体、MEMS、先进封装

及研发试验线。

随着先进逻辑与高层数存储器工艺持续演进、晶圆表面允许缺陷尺寸缩小，以及先进封装、碳化硅和氮化镓产能扩

张，全球单片式晶圆清洗设备市场保持较快增长。终端客户更加关注颗粒去除效率、低损伤能力、金属污染控制、晶

圆边缘与背面清洗、化学品消耗、设备产能、自动化程度和工艺稳定性。国际龙头在高端制程验证、工艺数据库和全

球客户