半导体设计试题及答案
一、选择题(每题5分,共30分)
1.以下哪种半导体材料常用于制造集成电路?
A.硅
B.锗
C.碳
D.硫
2.半导体设计中,CMOS工艺的全称是?
A.互补金属氧化物半导体
B.金属氧化物半导体
C.互补金属半导体
D.金属半导体
3.以下哪个是半导体设计中的关键参数?
A.电阻
B.电容
C.阈值电压
D.以上都是
4.半导体设计中,版图设计的主要目的是?
A.确定芯片的功能
B.规划芯片的电路布局
C.计算芯片的功耗
D.测试芯片的性能
5.以下哪种技术可提高半导体芯片的集成度?
A.光刻技术
B.封装技术
C.
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