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半导体设计试题及答案

一、选择题(每题5分,共30分)

1.以下哪种半导体材料常用于制造集成电路?

A.硅

B.锗

C.碳

D.硫

2.半导体设计中,CMOS工艺的全称是?

A.互补金属氧化物半导体

B.金属氧化物半导体

C.互补金属半导体

D.金属半导体

3.以下哪个是半导体设计中的关键参数?

A.电阻

B.电容

C.阈值电压

D.以上都是

4.半导体设计中,版图设计的主要目的是?

A.确定芯片的功能

B.规划芯片的电路布局

C.计算芯片的功耗

D.测试芯片的性能

5.以下哪种技术可提高半导体芯片的集成度?

A.光刻技术

B.封装技术

C.

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