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基于光学表面等离激元的纳米光刻结题报告

一、项目研究背景与目标

随着半导体工业的持续发展，摩尔定律的推进对光刻技术的分辨率提出了日益严苛的要求。传统光学光刻技术受限于衍射极限，其分辨率难以突破光源波长的一半，这在一定程度上制约了集成电路特征尺寸的进一步缩小。而表面等离激元（SurfacePlasmons,SPs）作为一种存在于金属-介质界面的电磁模式，能够突破衍射极限，将光场局域在纳米尺度范围内，为实现超高分辨率光刻提供了新的技术途径。

本项目旨在深入研究基于光学表面等离激元的纳米光刻技术，通过理论分析、数值模拟与实验验证相结合的方式，探索表面等离激元在光刻领域的应用潜力，开发出具有高分辨率、高对比度和高稳定性的纳米光刻工艺，为下一代半导体制造技术提供理论基础和技术支撑。具体目标包括：建立表面等离激元光刻的理论模型，揭示其光场增强与局域化机制；设计并制备高性能的表面等离激元光刻掩模；优化光刻工艺参数，实现特征尺寸小于50nm的图形转移；评估表面等离激元光刻技术的可行性与实用性。

二、表面等离激元光刻的理论研究

（一）表面等离激元的基本原理

表面等离激元是一种由自由电子与光子相互作用产生的电磁激元，其电磁场被局域在金属-介质界面附近，并且场强在垂直于界面的方向上呈指数衰减。当入射光的频率与金属表面自由电子的振荡频率相匹配时，就会激发表面等离激元共振，此时光场能量被有效地耦合到表面