SEMI F70-23 超纯水系统化学清洗与消毒效果验证标准规范（中文解读）.docxVIP

SEMIF70-23超纯水系统化学清洗与消毒效果验证标准规范（中文解读）

说明：SEMIF70为半导体超纯水（UPW）系统化学清洗、消毒、验证行业标准，2023版（SEMIF70-23），本文件为工程中文解读版；正式对外报审、涉外项目，需以SEMI英文原版为准。

1总则

1.1目的

本标准规定半导体工厂超纯水（UPW）系统化学清洗、化学消毒实施流程、药剂选型、工艺控制、取样方案、效果验证、残留确认、文件记录与再验证要求；用于去除系统内无机结垢、胶体、有机物、生物膜，控制微生物、TOC、颗粒、痕量金属污染，保障超纯水水质稳定，降低晶圆制造缺陷风险。

1.2适用范围

适用系统：半导体Fab超纯水整套系统，原水预处理、RO反渗透、EDI、混床/抛光树脂、储罐、循环分配管网、UV、超滤、终端过滤器。

适用作业：预防性周期性化学清洗消毒、故障触发式化学清洗消毒。

适用验证：清洗/消毒前风险评估、过程监控、完工冲洗、效果确认、残留验证、再验证周期判定。

不适用：单纯物理冲洗、巴氏热消毒、臭氧连续在线消毒（仅化学药剂循环浸泡清洗消毒在本标准管控范围内）。

1.3引用标准

SEMIF61超纯水系统设计、运行与维护

SEMIF57超纯水取样方法

SEMIC11高纯化学品

ASTMD1193试剂水

ASTMD2510水中总有机碳TOC测试

ASTME2657