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扬州半导体招聘面试题及答案

一、单项选择题(总共20题,每题1分)

1.半导体制造过程中,以下哪一步是离子注入的关键步骤?()

A.高温退火

B.光刻

C.离子加速

D.化学清洗

2.MOSFET器件中,栅极电压低于阈值电压时,器件处于什么状态?()

A.导通状态

B.截止状态

C.饱和状态

D.线性状态

3.半导体材料中,硅的禁带宽度是多少电子伏特?()

A.1.12

B.1.42

C.2.17

D.3.66

4.在CMOS电路中,PMOS和NMOS晶体管的互补特性是指什么?(

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