《xb-t+530-2026高纯金属镧靶材》培训课件.pptxVIP

《xb-t530-2026高纯金属镧靶材》培训课件

目录

02

术语与技术要求

01

标准概述

03

生产工艺规范

04

质量检测方法

05

应用领域与市场

06

储存运输与包装

标准概述

01

标准制定背景与目的

产业升级需求

随着高端显示和半导体产业快速发展，对高纯金属镧靶材质量要求不断提升，需制定统一标准规范生产。

传统靶材制备工艺难以满足高纯度、高致密度要求，新标准旨在引导行业技术升级与工艺优化。

为解决市场产品质量参差不齐问题，明确化学成分、物理性能等关键指标，提供质量控制依据。

技术迭代推动

质量控制规范

适用范围界定说明

材料纯度要求

标准适用于纯度不低于99.9%的高纯金属镧