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- 2026-10-29 发布于北京
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机械:拓荆科技688072.SH
投资建议:
公司是国内领先的前道薄膜沉积设备厂商,核心产品覆盖PECVD、ALD、SACVD、HDPCVD、FlowableCVD等多类工艺,已在国内先进逻辑与存储产线实现规模化交付;同时前瞻布局混合键合及配套量检测设备,切入异构集成与三维集成核心环节,业务由单一沉积设备向“沉积+键合”双引擎平台化演进。薄膜沉积设备处于半导体前道设备体系的核心位置,据MaximizeMarketResearch数据,全球薄膜沉积设备市场规模由2017年的125亿美元增长至2025年的340亿美元,2017-2025年复合增速约13.3%,高
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