CN119335965A 一种铺放轨迹后置处理方法、装置、电子设备及存储介质 (中国航空制造技术研究院).pdfVIP

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  • 2026-11-02 发布于重庆
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CN119335965A 一种铺放轨迹后置处理方法、装置、电子设备及存储介质 (中国航空制造技术研究院).pdf

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN119335965A

(43)申请公布日2025.01.21

(21)申请号202411443977.0

(22)申请日2024.10.16

(71)申请人中国航空制造技术研究院

地址100024北京市朝阳区八里桥北东军

庄1号

(72)发明人魏芳高诚冯长征马志涛

(51)Int.Cl.

G05B19/4155(2006.01)

权利要求书2页说明书8页附图3页

(54)发明名称

一种铺放轨迹后置处理方法、装置、电子设

备及存储介质

(57)摘要

本申请涉及一种铺放轨迹后置处理方法、装

置、电子设备及存储介质,其中,铺放轨迹后置处

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