CN118904911A 一种精密半导体掩膜材料的轧制方法和装置 （上海罗菱工业技术有限公司）.pdfVIP

(19)国家知识产权局

(12)发明专利申请

(10)申请公布号CN118904911A

(43)申请公布日2024.11.08

(21)申请号202411404742.0B21B45/02(2006.01)

(22)申请日2024.10.10

(71)申请人上海罗菱工业技术有限公司

地址200237上海市闵行区虹梅南路1755

号一幢一层V1073室

(72)发明人刘胜兰汤小庆吕强谢宗全

(74)专利代理机构上海宣宜专利代理事务所

(普通合伙)31288

专利代理师刘希豪

(51)Int.Cl.

B21B13/14(2006.01)

B21B37/48(2006.01)

B21B