中国地质大学（武汉）《工程伦理导论》2021-2022学年第一学期期末试卷.docVIP

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中国地质大学（武汉）

《工程伦理导论》2021-2022学年第一学期期末试卷

题号

一

二

三

四

总分

得分

一、单选题（本大题共20个小题，每小题2分，共40分．在每小题给出的四个选项中，只有一项是符合题目要求的．）

1、在电子工程中，集成电路的发展对电子设备的性能提升起到了关键作用。关于集成电路的制造工艺，以下哪项描述是不准确的？（）

A.光刻技术是集成电路制造中的关键工艺之一，用于在芯片上形成电路图案

B.随着集成度的提高，制造工艺的精度要求越来越高，成本也随之增加

C.新材料和新工艺的不断应用推动了集成电路性能的持续提升

D.集成电路的制造工艺已经非常成熟，未来不会再有重大的技术突破

2、在电子电路设计中，电阻、电容和电感是常见的基本元件。对于一个包含这些元件的交流电路，其性能会受到元件参数的影响。以下关于