《半导体厂务项目工程管理》课件——10.废水系统.pptxVIP

半导体厂务项目工程管理

项目十

废水系统

任务10-1废水的种类

1.研磨废水

来源：研磨过程、抛光过程、清洗过程等等。。

研磨废水中含有大量的未反应的磨料颗粒（如碳化硼、金刚石、二氧化硅等微米级颗粒）以及从被加工材料表面磨削下来的微小颗粒，以及含有多种添加剂成分：研磨液和抛光液中的表面活性剂、分散剂、pH调节剂等有机成分。

2.含氟废水

来源：含氟化合物、含氟清洗剂等等。。

高浓度氟离子处理过程复杂

氟化物强腐蚀耐腐蚀材料

高毒性氟离子浓度控制

3.有机废水

来源：有机溶剂和化学物质、清洗剂等等。。

特点：

成分十分复杂

高度毒性

难以生物降解的有机物

但许多物质具有较高的回收价值

4.含氨氮废水

来源：清洗、刻蚀、腐蚀等工艺过程。。

特点：

废水浓度高

污染性强

排放量大

高含量的氨氮会消耗水中的溶解氧，导致水体富营养化，进而引发水华和赤潮等环境问题。

5.酸碱废水

来源：清洗设备和蚀刻设备。。

特点：

排放量大

成分复杂

pH值波动大

污染浓度高

任务10-2废水处理系统

【任务背景】废水零排放思路

【任务背景】废水零排放思路

出水品质高：盐脱除率可达99%以上，废水淡水含盐量稳定；

节能降排：废水预处理后收集至膜浓缩系统，其淡水回用至纯水制备系统，节约用水，提高水的使用效率；浓水再进蒸发系统，极大减少了蒸