GB 50747-2024 配套设计手册中文版 纯水系统工艺流程选择.docxVIP

PAGE

GB50747-2024配套设计手册中文版纯水系统工艺流程选择

免责声明：本文为电子工业纯水与洁净厂房领域的工程技术资料，依据公开技术资料、通用工程实践与设备选型经验整理编写，供设计、施工、监理及运行管理人员作技术参考。文中所列水质指标、工艺参数、计算公式、材料性能与配置方案均对应特定边界条件，不构成对任何具体项目的设计结论。标准编号、版本状态与条文内容应以国家正式发布的标准文本为准，工程设计文件尚须经具备相应资质的设计单位校审并由注册工程师签章后方可实施。使用者应结合原水全分析报告、工艺用水清单、设备制造商技术文件及项目所在地法规要求独立核定；因直接套用本文内容导致的工程偏差、经济损失或第三方索赔，本文编写方不承担相应责任。

1设计边界条件与产水水质目标的确定

1.1产水水质等级与内控指标的映射

电子工业纯水系统的流程选择以产水水质目标为起点。电子级水按GB/T11446.1-2013分为EW-I至EW-IV四级，25℃理论纯水电阻率极限为18.24MΩ·cm，EW-I要求电阻率不低于18MΩ·cm且允许5%时间不低于17MΩ·cm。晶圆制造、光刻与湿法清洗等先进制程的用水内控通常严于EW-I：总有机碳（TOC）控制在1至5μg/L，溶解氧（DO）不超过10μg/L，硼控制在0.05至0.1μg