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玻璃仪器光刻工艺考核试卷及答案.docx

玻璃仪器光刻工艺考核试卷及答案.docx

    玻璃仪器光刻工艺考核试卷及答案

    一、单项选择题（每题2分，共20分）

    1.玻璃基材光刻前进行HMDS处理的主要目的是？

    A.提高玻璃表面平整度

    B.增强光刻胶与玻璃表面的附着力

    C.去除玻璃表面金属离子

    D.增加玻璃表面透光率

    2.下列哪种刻蚀剂常用于玻璃基底上铬膜的图形刻蚀？

    A.氢氟酸溶液

    B.硝酸铈铵酸性溶液

    C.氢氧化钠溶液

    D.过氧化氢溶液

    3.玻璃仪器光刻中，若需刻蚀玻璃本身形成微结构，应选用的刻蚀剂是？

    A.稀硫酸

    B.稀盐酸

    C.氢氟酸

    D.丙酮

    4.接触式曝光中，玻璃掩模与涂胶玻璃基材贴合不良最可能导致的缺陷是？

    A.光刻胶脱落

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