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《先进光刻胶研发与应用技术培训手册》.docx

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    《先进光刻胶研发与应用技术培训手册》

    目录TOC\o1-4\z\u

    一、先进光刻胶基本概念与分类 2

    二、光刻胶核心组分与作用机理 5

    三、光刻胶核心性能指标与测试方法 10

    四、半导体用先进光刻胶类型与特性 12

    五、平板显示用光刻胶研发技术要求 15

    六、集成电路封装用光刻胶技术要点 18

    七、光刻胶配方设计与优化方法 21

    八、光刻胶工业化制备工艺流程 24

    九、光刻胶涂覆与显影工艺参数控制 27

    十、曝光工艺对光刻胶性能的影响规律 30

    十一、光刻胶刻蚀选择性与图形保真控制 32

    十二、光刻胶性能表征与无损检测技术

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