集成电路电子设计自动化工具 光源-掩模联合优化工具数据输入格式标准化发展研究报告.docx

集成电路电子设计自动化工具光源-掩模联合优化工具数据输入格式标准化发展报告

EnglishTitle:StandardizationDevelopmentReportonDataInputFormatforSource-MaskCo-OptimizationToolsinIntegratedCircuitElectronicDesignAutomation

摘要

随着集成电路制造工艺向3nm及以下技术节点持续推进，光源-掩模联合优化（Source-MaskCo-Optimization,SMO）技术已成为提升光刻成像质量与工艺窗口的核心手段。然而，当前国内SMO工具的数据输入格式缺乏统一规范，导致不同厂商工具之间数据交换困难、设计流程衔接效率低下，严重制约了国产EDA工具链的协同发展。本报告基于工业和信息化部2025年第四批行业标准制修订计划（工信厅科函〔2025〕423号），围绕《集成电路电子设计自动化工具光源-掩模联合优化工具数据输入格式》（计划编号：2025-0836T-SJ）行业标准的制定工作，系统阐述了该标准的研制背景、技术框架、主要内容及行业意义。该标准由全国集成电路标准化技术委员会归口管理，广东工业大学牵头，联合中国电子技术标准化研究院、北京华大九天科技股份有限公司等十余家单位共同起草。本报告旨在为集成电路EDA领域的