原子层沉积词汇 标准立项发展报告.docx

原子层沉积词汇标准立项发展报告

StandardizationDevelopmentReport:AtomicLayerDeposition—Vocabulary

摘要

原子层沉积（AtomicLayerDeposition,ALD）技术作为一种先进的纳米级薄膜制备方法，近年来在半导体、新能源、生物医疗等领域得到广泛应用。随着ALD技术的快速发展和产业化进程加速，行业内对统一术语和规范定义的需求日益迫切。ISO8181-2023《原子层沉积词汇》（第一版）由国际标准化组织于2023年10月16日正式发布实施，是ALD领域首个国际性术语标准。该标准系统界定了原子层沉积技