ICS31.080.01
CCSL40
中华人民共和国国家标准
GB/TXXXXX.6—XXXX
碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管
(SiCMOSFET)试验方法第6部分:动态
反偏(DRB)
Testmethodforsiliconcarbidemetal-oxide-semiconductorfield-effect
transistor(SiC
您可能关注的文档
- GBT《钛合金等温锻件 通用技术规范》.pdf
- GBT《钛合金等温锻件 通用技术规范编制说明》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)测试方法第1部分开关动态参数》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)测试方法第2部分栅极电荷》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第1部分功率循环》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第2部分高温栅偏》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第3部分动态栅偏》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第4部分高温反偏》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第5部分高温高湿反偏》.pdf
- GBT《碳化硅金属氧化物半导体场效应晶体管(SiCMOSFET)试验方法第7部分动态高温高湿反偏(DH3TRB)》.pdf
原创力文档

文档评论(0)