用于微光刻中的一种高精密对准工作台.pdf

维普资讯 1—995 竺 年弟2期 电工业专用设备落．_甚 用于微光刻ON--种高精密 ．7 2 ‘ 对 准 台 Takehik N。 等 4 00mufa等 ，y，，ph))丁，J， 1垒C 摘要 采用短 波长光源 ，制作小于。．5 m线宽的vLsI芯片，对 住精度必须 是 。．1 引 言 合 同时已经考虑一种能对掩模 台提供六个 自由度 (X、Y Z、0N 向和 x、Y向的旋 短波长照 明光源 ，如x射线和准 分子激 转 )运动的新型机构。 光 ，据预测将应用在微光刻 中。对准精度会 变得更高，用于0．5gni或更小线宽 的VLSI x—Y台阻尼驱动机构 芯片中，总的设计 对 准 精 度 比0．1gm还要 无效运动象过冲、飘移、爬行和机构中 小。在现行的对准技术中，硅片 台的精确位 的滞后，都属于影响工作台运动精度因素。 移 ，对对准误差的修正 由对准系统所决定。 对于微位移系统应用一种无效运动的自由机 显然，高精度掩模位移系统就 考 虑 得少了 构是很重要 的。一种压 电传 感 器 (PZT) 些 。 普遍应用在高精密位移传动装置上。然而在 短波长照明光源在曝光中对倍率 、梯形 PZT系统 中没有太大的冲程 ，一 种 重 型位 和畸变误差的作用，比传统照明光源 (如g、 移机构显得很有必要 ，因此总的机构尺寸变 i线)更精密。为了修正这些误差，对 准系统 得相对 的大 。 要求对准台具有z向运动和俯仰运动。 阻尼驱动机构 由三个部份组成 ：驱动滚 氮氟激光被应用在对准系统光源中，短 柱 、滑块和预装载装置 。预装载装置调整滚 波长光源和He—Ne激光波长二者的 焦距不 柱和滑块之间的力，以防止它们精动。如果 同，乃是一个敏感的问题 。应当考虑借助掩 将滑块 的直线运动改变为旋转运动的话，而 模和片子间接对准，象离轴对准。在这种系 减速系统就投有必要。原则上 ，它应尽可能 统 中，掩模 的位移精度在达到对准精度方面 地消除滞后 、过冲和驱动转换系统 的浮动 。 是一个重要因素。 滚珠和导轨是影 响爬行的主要方面 ，它 在设计精密对准台时有两条原则必须遵 最适合与阻尼驱动系统应用在空气静压轴承 循 t一是高精度台运动精度 ，二是紧凑的馓 中。而空气静压轴承要求获得足够负载能力 位移机构设计，包括精密传感器 。为了完善 的大型结构和静态刚度 。在这项研究中，已 上述两个精密机构 的设计特点，对 X、Y 向 经考虑到滚珠丝杆结构 ，以取得严谨的工作 运动考虑一种阻尼驱动机构与线性标尺相结 台设计。 0 维普资讯 图 1表示 的阻尼驱动系统 ，是为基础实 是减速机构，如齿轮副。回程滚拄从对面的 验所设计的。线性滚柱导向支承x—Y台，滚 驱动滚柱压向滑块，对滑块产生驱动力，驱 珠支承 阻尼驱动滚柱和 回程滚柱 。驱动马达 动滚柱为 6mm．滑块行程范围约l