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现代结构分析方法 透射电镜在材料学中的运用以及透射电镜样品的制备 高晓霞 主要内容 透射电镜基本介绍 透射电镜的起源和发展史 透射电镜的结构 现代透射电镜的应用 透射一些技术 透射样品的准备 为什么叫透射电镜 透射电镜成像原理 透射电镜的起源和发展史 1931年第一台透射电子显微镜Max Knoll 和Ernst Ruska 透射电镜的发展史上的几件大事 Ruska-1928-1930用磁透镜将金属网放大13倍实现电子显微成像 1930-1933 与Von Borries 制造了第一台电子显微镜。（西门子） M.Rüdenberg-1931.5.28向德、法、英等国申请电子显微镜专利（凭理论推测），1932年12月和1936年10月获得法、英的批准，1953年获得西德的批准。电子显微镜一词首先出现在Rüdenberg的专利中。 1939年，第一台商业透射电子显微镜。 1956年Menter得到酞氰铂和酞化氰铜的点阵平面条纹像（1纳米） 1967年Allpress和Sanders得到分辨率为0.7纳米的氧化物的像。 1971年Iijima高分辨观察到氧化铌中金属原子的分布（~0.3纳米），标志高分辨像与晶体结构对应关系的产生。 70年代，扫描透射电子显微镜开始问世，Albert Crewe ，芝加哥大学 1986年诺贝尔将委员会把物理奖的一半颁发给E.Ruska:”为了他在电子光学基础研究方面的贡献和设计出第一台电子显微镜.” 90年代，场发射电镜 2000以后 球差色差校正的透射电镜，分辨率达到0.7埃 电子枪数值对比表 主要内容 透射电镜基本介绍 透射电镜的起源和发展史 透射电镜的结构 现代透射电镜的应用 透射一些技术 透射样品的准备 透射电镜结构 透射电镜电子照明系统—电子枪 热阴极(thermoionic) 钨 LaB6 场发射（field emission) 热场 冷场 主要内容 透射电镜基本介绍 透射电镜的起源和发展史 透射电镜的结构 透射电镜的功能和应用 透射其他技术 透射样品的准备 现代的电子透射显微镜 电镜衬度-质厚 衍射衬度（一） 相衬度 相衬度 相衬度 扫描透射电子显微镜 原子衬度 原子衬度 HRSTEM--AuPd EELS EELS EELS X-射线先扫描 主要内容 透射电镜基本介绍 透射电镜的起源和发展史 透射电镜的结构 现代透射电镜的应用 透射电镜其他技术 透射样品的准备 ＦＥＩ-------ＴＩＴＡＮ 其他透射技术—加热样品台 透射其他技术—冷冻样品台 冷却样品台 冷冻样品台 其他透射技术--三维透射电镜 主要内容 透射电镜基本介绍 透射电镜的起源和发展史 透射电镜的结构 现代透射电镜的应用 透射电镜其他技术 透射样品的准备 样品的制备 粉末样品 块材（半导体，金属，陶瓷） 平面样品 截面样品 薄膜材料 生物样品 粉末样品 块体材料 块材平面样品的准备 块材平面样品的准备 样品制备设备 金属样品制样 薄膜样品 平面样品—如同块体材料制作流程 截面样品 薄膜-cross-section 薄膜-cross-section 薄膜-cross-section FIB Microtome 参考文献 FEI 产品介绍 Gatan 样品准备 谢谢大家 取少许粉末样品 置于酒精或其他溶剂中） 超声分散5分钟 用移液枪滴于铜网上 从实物上取直径3mm的一块薄片 样品预减薄（小于100um） 挖坑仪（小于10um） 离子减薄仪减薄到100纳米以下 3mm 平面磨 80um 切片 3mm 3mm 挖坑 10um 3mm 离子减薄 100nm 切片机 挖坑仪 离子减薄仪 冲压 3mm 3mm 平面磨 80um * * 114.9425 0.0087 0.0123 1000000 27.0270 0.0370 0.0388 100000 18.6567 0.0536 0.0548 50000 8.1900 0.1221 0.1227 10000 2.5786 0.3878 0.3878 1000 0.8150 1.227 1.227 100 0.2578 3.879 3.879 10 0.0815 12.27 12.27 1 波矢长度（埃-1） 相对论修正波长（埃） 电子束波长（埃） 加速电压（伏） 透射电镜是由电子光学系统、真空系统、供电系统三部分组成的 电子光学系统分为 电子照明系统 电磁透镜成像系统 成像记录系统 2nm 2nm MnO纳米离子 硅 * *