应用纳米级金刚石抛光亚纳米级光滑表面.pdfVIP

光学精密工程990513 光学精密工程 OPTICS AND PRECISION ENGINEERING 1999年 第7卷 第5期 No.5 Vol.7 1999 应用纳米级金刚石抛 光亚纳米级光滑表面 ＊ 高宏刚　　王建明 　　摘　要　用爆炸法合成的纳米级金刚石是一种新型纳米材料，其物理机械特性与普 通亚微米级金刚石微粉有很大差别。我们使用这种材料配制的抛光液对YVO4晶体进行 了超精密抛光的初步实验，获得了具有较低表面粗糙度（＜1 nm）的表面，发现了纳米 金刚石作为抛光材料的独特之处。本文描述了实验结果，分析了抛光表面，并总结了纳 米金刚石粉的抛光特性，提出了关于抛光中的材料去除过程的见解。 　　关键词　抛光　纳米　金刚石　超光滑　　中图分类号　TQ171．684　　文献标 识码　A Application of UFDon Polishing Surfaces with Sub －nanometer Scale Roughness 　　GAO Hong －Gang （State Kye Lab．of Applied Optics，Changchun Institute of OpticsandFine Mechanics， Chinese Academy of Sciences，Changchun 130022 ） 　　Wang Jian －Ming 　　（The Institute of Physics，Chinese Academy of Sciences，Beijing 100081 ） Abstract　Ultrafine diamond powder synthesized by explosive detonation is a kind of new nano －materialwith different properties from diamond powder we usually employ as abrasive ．Weused this kind ofdiamond as polishing abrasive in the superpolishing experiments on YVO4 ．This paper describes the characteristics of this kind of diamond as polishing materials ．Su－persmooth surfaces were achieved with roughness less than 1 nm after the primary experi －ments ． Kkey words ：Polishing ，Nanometer ，Diamond ，Supersmooth 1　引言 　　对于硬脆材料的研磨而言，被加工元件的表面随使用磨料的粒度减小而更加光滑。 抛光作为研磨的延续，随所用抛光粉粒度的减小，元件表面粗糙度不断降低。通常抛光 所用磨料的最小粒度为0．1μm～1μm；尚无人在磨料粒度为数微米～数纳米的范围内 万方数据 1／6 页）2010-3-22 20:49:36 光学精密工程990513 验证表面粗糙度与磨料粒度的这种对应关系。事实上，许多人使用粒度为～1μm的磨 料，通过改变抛光参数，比如延长抛光时间等，获得了粗糙度为亚纳米级（μm／ 10000数量级）的超光滑表面。 　　金刚石微粉是最常用的磨料之一。金刚石硬度在所有材料中最大，不易破碎，其化 学稳定性也很高，可以用于加工几乎所有的材料。普通金刚石抛光粉的最小标称粒度为 0．5μm，国外可达0．1μm。 ［1］ 料。前苏联的科学家于1984年首次获得了这种微粉