第八章配位滴定法.ppt

第三节 配合物在溶液中的离解平衡 ★滴定条件的选择 第七节 标准溶液 第八章 滴定方式与应用 二、提高配位滴定选择性的措施 （一）控制适宜的酸度 存M、N两种或多种离子，当ΔlgK≥6时， 根据 改变酸度 ，αY(H) 变化，lgK’均降低 使（M）形成稳定的配合物（即满足lgCMK′MY≥6），而（N）无法形成稳定的配合物,从而消除干扰。 例 溶液中Bi3+、Pb2+浓度均为1.0×10－2mol/L，问可否利用 控制酸度的方法用EDTA滴定Bi3+而Pb2+不干扰 （TE＝0.1％）lgKBiY＝28.0 lgKPbY＝18.50 （二）掩蔽干扰离子 在滴定体系中加入某种试剂，此试剂仅与干扰离子N反应，从而降低溶液中游离N的浓度，使之不与EDTA配位，或是使K′NY减至很小。这种方法称为掩蔽法，所加试剂则称为掩蔽剂。 常用的掩蔽法分为配位掩蔽法、沉淀掩蔽法、氧化还原掩蔽法。 1.配位掩蔽法 利用掩蔽剂与干扰离子N形成稳定的配合物，降低游离干扰离子的浓度，使αY(N)减小，以消除干扰的掩蔽方法。 例如，Al3+与Zn2+共存测定Zn2+ ， lgKZnY＝16.50 ，lgKALY＝16.30 ,ΔlgK 6,可用NH4F掩蔽Al3+，调节pH5～6后，用EDTA滴定Zn2+。 条件： ①KNLKNY ②掩蔽条件与滴定条件一致 ③配合物应无色或浅色 如：用EDTA滴定水中的Ca2+、Mg2+以测定水硬度时，Fe3+、Al3+等离子会发生干扰，常加入三乙醇胺使之与Fe3+、Al3+生成更稳定的配合物，从而消除其干扰。 加入沉淀剂，使干扰离子产生沉淀而降低浓度，在不分离沉淀的情况下直接滴定，这种方法称为沉淀掩蔽法。 2.沉淀掩蔽法 例如，EDTA滴定Ca2+消除Mg2+ 的干扰，利用二者氢氧化物的溶度积相差较大，pH 12的强碱性条件下滴定，Mg2+形成氢氧化物沉淀而不干扰Ca2+的滴定。 条件：① 沉淀s小，吸附作用小②沉淀应无色或浅色 例如，由于Fe3+与Bi3+、Th4+、In3+、Hg2+、Sc3+、Sn4+等金属离子的lgKMY值相近，无法利用控制酸度选择滴定,消除Fe3+的干扰 已知lgKFe(Ⅲ)Y＝25.1，lgKFe(Ⅱ)Y＝14.33 通过加入还原剂如抗坏血酸，将 Fe3+ 还原 Fe2+，使ΔlgK值增大消除Fe3+的干扰。 3.氧化还原掩蔽法 利用氧化还原反应改变干扰离子的价态以降低条件稳定常数进而消除干扰的方法。 一．???? 标准溶液和指示剂的配制 ?1、? 0.05 mol/L EDTA标准溶液的配制 取 EDTA－2Na·H2O 19克，溶解于温蒸馏水中，冷却后配成1升即可。 ?二、标准溶液的标定 基准物：纯锌粒 、氧化锌 2、 0.05 mol/L锌标准溶液的配制 精密称纯锌粒 3.26 克，以10ml 盐酸溶液后配成1升溶液。 * * 第八章 配位滴定法 coordinatetitration 简单配位化合物 多基配位体的配合物（螯合物） 配合物 目前应用最多的一类螯合剂是以氨基二乙酸[－N(CH2COOH)2]为基体的氨羧配位剂， 应用最为普遍的是 乙二胺四乙酸（简称EDTA）。 第一节 概述 配位滴定法—以形成配位化合物反应为基础的滴定分析方法。 M+Y MY 乙二胺四乙酸（EDTA） 目前所谓配位滴定主要指EDTA滴定 第二节 EDTA的性质及其配合物 ? H6Y2+ H+ + H5Y+ pKa1=0.90 H5Y+ H+ + H4Y K2= · · · pKa2=1.6 H4Y H+ + H3Y－ K3= · · · pKa3=2.00 H3Y－ H+ + H2Y2－ K4= · · · pKa4=2.67 H2Y2－ H+ + HY3－ K5= · · · pKa5=6.16 HY3－ H+ + Y4－ pKa6=10.26 Na2H2Y.2H2O [Y’] = [Y4－] + [HY3－] + [H2Y2－] + [H3Y－]