磁性复合磨粒化学机械抛光技术及其加工试验研究.pdfVIP

磁性复合磨粒化学机械抛光技术 及其加工试验研究 *  1  1,2  1  1  1  许雪峰  郭 权  黄亦申  胡建德  彭 伟  (1.  浙江工业大学特种装备制造与先进加工技术浙江省重点实验室 杭州  310014；  2.  浙江万向精工有限公司 杭州  311215)  摘要：提出了一种新型的磁性复合磨粒化学机械抛光技术。该技术利用磁性聚合物微球与 SiO 磨粒组成的复合磨粒抛光液， 2  在辅助磁场的作用下， 实现了一种磨粒尺寸与硬质抛光盘微观形貌依赖性小、 材料去除率较高的抛光工艺。 建立了直径8 mm、 高度不等的稀土钕铁硼永磁体以点阵形式组合的 4类辅助磁场。仿真计算表明，柱状下凹磁极的磁场磁力 HdH/dz 分布均匀， 磁性微球受到的磁力一致性好。对磁性微球在抛光系统中的受力分析表明，磁性微球受到的磁力有助于复合磨粒从近抛光区 域进入抛光区域，磁性复合磨粒能以二体磨损的方式划擦去除加工表面。以表面粗糙度为 R 0.5 μm 的硬质抛光盘进行硅片 a  抛光试验，施加辅助磁场前后，硅片的材料去除率从 66 nm/min 提高到 179 nm/min；硅片表面粗糙度由抛光前 R 405.860 nm  a  减小到 R 0.490 nm。 a  关键词：化学机械抛光 抛光液 磁性复合磨粒 辅助磁场 中图分类号：TH117.1   TN305.1  Chemical Mechanical Polishing Using Magnetic Composite Abrasives  Slurry and Experimental Study on Polishing Performance  1  1,2  1  1  1  XU Xuefeng  GUO Quan  HUANG Yishen  HU Jiande  PENG Wei  (1. Zhejiang Provincial Key Laboratory of Special Purpose Equipment and Advanced Manufacturing Technology,  Zhejiang University of Technology, Hangzhou 310014;  2. Zhejiang Wanxiang Precision Industry Co. LTD., Hangzhou 311215 )  Abstract：A polishing method that uses an auxiliary magnetic field is proposed, in which magnetic polymer microspheres/SiO2  comp