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复合材料学课程论文 题 目： 纳米陶瓷材料 纳米陶瓷材料 摘 要: 纳米陶瓷材料硬度，韧性，导电导热性能优良，特别是在高温下使硬度、强度得以较大的提高。现在已被广泛得研究。本文论述了纳米陶瓷材料的制备工艺，性能以及其应用前景，纳米陶瓷材料在今年还会有更在的发展。 关键词: 纳米陶瓷材料、CVD法、力学性能、高温材料 1 引 言 1986年日本的Nihara。等图首次在基体中引人纳米级的SIC制备出纳米陶瓷复合材料, 以纳米尺寸的碳化硅颗粒为第二相的纳米复相陶瓷，具有很高的力学性能。纳米颗粒Si3N4、SiC超细微粉分布在材料在内部晶粒内，发现不仅可使基体材料的室温力学性能(如常温硬度、强度和断裂韧性等)得到提高,而且可显著改善材料的高温性能(如高温硬度、强度、蠕变拉力、耐热冲击性能等)。[1]增强了晶界强度，提高了材料的力学性能，易碎的陶瓷可以变成富有韧性的特殊材料。从此纳米陶瓷复合材料成为陶瓷材料领域的研究热点之一。纳米陶瓷复合材料的制备方法对材料的性能有直接紧密的关系,本文旨在参考国内相关文献对纳米陶瓷复合材料的制备工艺及其特性作简要评述。 纳米陶瓷的特性主要在于力学性能方面，包括纳米陶瓷材料的硬度，断裂韧度和低温延展性等。纳米级陶瓷复合材料的力学性能，特别是在高温下使硬度、强度得以较大的提高。有关研究表明，纳米陶瓷具有在较低温度下烧结就能达到致密化的优越性，而且纳米陶瓷出现将有助于解决陶瓷的强化和增韧问题。在室温压缩时，纳米颗粒已有很好的结合，高于500℃很快致密化，而晶粒大小只有稍许的增加，所得的硬度和断裂韧度值更好，而烧结温度却要比工程陶瓷低400～600℃，且烧结不需要任何的添加剂。其硬度和断裂韧度随烧结温度的增加（即孔隙度的降低）而增加，故低温烧结能获得好的力学性能。通常，硬化处理使材料变脆，造成断裂韧度的降低，而就纳米晶而言，硬化和韧化由孔隙的消除来形成，这样就增加了材料的整体强度。因此，如果陶瓷材料以纳米晶的形式出现，可观察到通常为脆性的陶瓷可变成延展性的，在室温下就允许有大的弹性形变。 纳米陶瓷复合材料制备工艺和方法 制备纳米复合陶瓷的关键是使纳米颗粒均匀分散在陶瓷基质中。而纳米材料粒径小,比表面积大,界面原子多,存在大量的悬键和不饱和键,使得纳米颗粒具有较高的化学活性,极易团聚形成带有若干弱连接界面的尺寸较大的团聚体。在致密化过程中,会导致纳米颗粒异常长大,失去纳米弥散相的独特作用。因此,克服纳米颗粒的团聚,使其充分分散,并与基质颗粒均匀混合是获得高性能纳米复合材料的前提。 为获得纳米陶瓷，必须首先制备出小尺寸的纳米级陶瓷粉末，现在出现的方法有热化学气相反应法、激光气相法、等离子体气相合成法、化学沉淀法、高压水热法、溶胶 -凝胶法等新方法。以下各种方法都各有优缺点，为了便于控制反应的条件及粉末的产率、粒径与分布等，实际上也常采用两种或多种制备技术[2]。 2.1 热化学气相反应法(CVD法) CVD法制备纳米粉体工艺是一个热化学气相反应和形核生长的过程[3]。在远高于热力学计算临界反应温度条件下，反应产物蒸气形成很高的过饱和蒸气压，使得反应产物自动凝聚形成大量的核，这些核在加热区不断长大聚集成颗粒，在合适的温度下会晶化成为微晶。随着载气气流的输运和真空的抽送 ,反应产物迅速离开加热区进入低温区，颗粒生长、聚集、晶化过程停止，最后进入收集室收集起来，就可获得所需的纳米粉体。此工艺过程可通过调节浓度、流速、温度和组成配比等工艺参数获得最佳工艺条件，实现对纳米粉体组成、形貌、尺寸和晶相等的控制。 2.2 激光气相法(LICVD法) 激光气相法是以激光为快速加热热源，利用反应气体分子对特定波长激光束的吸收布产生热解或化学反应,在瞬时完成气相反应的成核、长大和终止,形成超细微粒。通常采用连续波CO2激光器，加热速率快，高温驻留时间短，迅速冷却 ,可获得均匀超细，最低颗粒尺寸小于10nm的粉体。该方法反应中心区域与反应器之间被原料气隔离，污染小，能够获得稳定质量的粒径范围为小于 50nm的超细粉末，晶粒粒径尺寸可控，同种成分的粉体，激光法可通过合成参数控制粉体的晶型。并适合于制备用液体法和固相法不易直接得到的非氧化物 (氮化物 ,碳化物等 ),缺点是原料制造价格高，设备要求高，费用贵。 等离子体气相合成法(PCVD) PCVD法是制备纳米陶瓷粉体的主要手段之一，它具有高温急剧升温和快速冷却的特点，是制备超细陶瓷粉体的常用手段。目前采用得最多的是热等离子法。等离子气相合成法又分为直流电弧等离子体法 (DC法)，高频等离子体法 (RF法 )和复合等离子体法。其中的复合等离子法则是采用DC等离子体法和RF等离子体法二者合一的方式，利用二相相